千歳（ちとせ）で次世代半導体の量産を目指すラピダスが、セイコーエプソンの千歳事業所内に新たな研究開発拠点をつくると発表しました。半導体の製造過程は大きく、電子回路をつくる「前（まえ）工程」と基板から切り離してＩＣチップにする「後（あと）工程」に分けられますが、ラピダスはこれを連続して行うことで、製造スピードを高める方針です。きょう、ラピダスは会見を開き、現在建設中の工場に隣接する大手情報機器メーカー・セイコーエプソン千歳事業所内に、「後（あと）工程」の研究開発拠点をつくると発表しました。
小池社長「非常に近いところで後工程の研究開発ができるのは非常に大きな意味を持っている」
これまで使用していなかったおよそ9000平方メートルのフロアを使って今月から施設の建設工事を始め、来年4月に製造装置を導入、再来年4月を目標に本格的な研究開発を始める計画です。半導体分野では「後工程」が今後の競争力のカギになるとみられています。ラピダスはこの拠点ができ次第、現在世界中で進めている技術開発をもとにした実験や試作を重ねて工場での量産に繋げたいということです。