【ライブ配信セミナー】レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向 5月26日（水）開催 主催：(株)シーエムシー・リサーチ

本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー（ライブ配信セミナー）となります。

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/ ）では、 各種材料・化学品などの他、エレクトロニクス関連の市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向」と題するセミナーを、 講師に遠藤 政孝 氏　大阪大学 産業科学研究所 招聘教授）をお迎えし、2021年5月26日（水）10:30より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般：55,000円（税込）、 弊社メルマガ会員：49,500円（税込）、 アカデミック価格は26,400円（税込）となっております（資料付）。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください！
　https://cmcre.com/archives/74868/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。



メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードのデバイスが量産されています。また、来年には3nmロジックノードのデバイス量産が予定されています。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめます。

1）セミナーテーマ及び開催日時
テーマ：レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向
開催日時：2021年5月26日（水）10:30～16:30
参 加 費：55,000円（税込） ※ 資料付
　　＊ メルマガ登録者は 49,500円（税込）
　　＊ アカデミック価格は 26,400円（税込）
講 師：遠藤 政孝 氏　　大阪大学 産業科学研究所 招聘教授

【セミナーで得られる知識】
・レジスト、微細加工用材料の基礎知識
・リソグラフィの基礎知識・最新技術
・レジスト、微細加工用材料の要求特性
・レジスト、微細加工用材料の課題と対策
・レジスト、微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向

※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。

2）申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/74868/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
[画像: https://prtimes.jp/i/12580/1215/resize/d12580-1215-724024-0.jpg ]


3）セミナープログラムの紹介
1. リソグラフィの基礎
　1.1　露光
　　1.1.1　コンタクト露光
　　1.1.2　ステップ＆リピート露光
　　1.1.3　スキャン露光
　1.2　照明方法
　　1.2.1　斜入射（輪帯）照明
　1.3　マスク
　　1.3.1　位相シフトマスク
　　1.3.2　光近接効果補正（OPC）
　　1.3.3　マスクエラーファクター（MEF）
　1.4　レジストプロセス
　　1.4.1　反射防止プロセス
　　1.4.2　ハードマスクプロセス
　　1.4.3　化学機械研磨（CMP）技術
　1.5　ロードマップ
　　1.5.1　IRDSロードマップ
　　　1.5.1.1　リソグラフィへの要求特性
　　　1.5.1.2　レジスト、微細加工用材料への要求特性
　　1.5.2　微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
2. レジストの基礎
　2.1　溶解阻害型レジスト
　　2.1.1　g線レジスト
　　2.1.2　i線レジスト
　2.2　化学増幅型レジスト
　　2.2.1　KrFレジスト
　　2.2.2　ArFレジスト
　　2.2.3　化学増幅型レジストの安定化技術
3. レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の最新技術
　3.1　液浸リソグラフィ
　　3.1.1　液浸リソグラフィの基本と課題
　　　3.1.1.1　従来　NAレンズでの液浸リソグラフィ
　　　3.1.1.2　高NAレンズでの液浸リソグラフィ
　　3.1.2　液浸リソグラフィ用トップコート
　　3.1.3　液浸リソグラフィ用レジスト
　　　3.1.3.1　液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
　　　3.1.3.2　液浸リソグラフィ用レジストの設計指針
　3.2　ダブル/マルチパターニング
　　3.2.1　ダブル/マルチパターニングの基本と課題
　　3.2.2　リソーエッチ（LE）プロセス用材料
　　3.2.3　セルフアラインド（SA）プロセス用材料
　3.3　EUVリソグラフィ
　　3.3.1　EUVリソグラフィの基本と課題
　　3.3.2　EUVレジスト
　　　3.3.2.1　EUVレジストの要求特性
　　　3.3.2.2　EUVレジストの設計指針
　　　　3.3.2.2.1　EUVレジスト用ポリマー
　　　　3.3.2.2.2　EUVレジスト用酸発生剤
　　　3.3.2.3　EUVレジストの課題と対策
　　　　3.3.2.3.1　感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
　　　　3.3.2.3.2　ランダム欠陥（Stochastic Effects）
　　　3.3.2.4　最新のEUVレジスト
　　　　3.3.2.4.1　分子レジスト
　　　　3.3.2.4.2　ネガレジスト
　　　　3.3.2.4.3　ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
　　　　3.3.2.4.4　無機/メタルレジスト
　3.4　自己組織化（DSA）リソグラフィ
　　3.4.1　自己組織化リソグラフィの基本と課題
　　3.4.2　グラフォエピタキシー用材料
　　3.4.3　ケミカルエピタキシー用材料
　　3.4.4　高χ（カイ）ブロックコポリマー
　　　3.4.4.1　Si含有型ブロックコポリマー
　　　3.4.4.2　有機型ブロックコポリマー
　3.5　ナノインプリントリソグラフィ
　　3.5.1　ナノインプリントリソグラフィの基本と課題
　　3.5.2　加圧方式ナノインプリントリソグラフィ用材料
　　3.5.3　光硬化方式ナノインプリントリソグラフィ用材料
　　　3.5.3.1　光硬化材料
　　　3.5.3.2　離型剤
4. リソグラフィの技術展望
5. レジスト、微細加工用材料の技術展望と市場動向

4）講師紹介
【講師略歴】
1983年　松下電器産業（株） 入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック（株）セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト、EUV レジストの研究開発に従事。
【学　会】
フォトポリマー学会 企画委員長、フォトポリマー懇話会 企画委員長
【著　書】
「迫りくるAI時代に向けた半導体製造プロセスの今」（情報機構）[共著]他

5）セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。

【セミナー対象者】
・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方

☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/74868/

6）ウェビナー（オンライン配信セミナー）のご案内
〇　エラストマーの技術トレンドと市場動向
　　開催日時：2021年5月10日（月）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/76604/

〇　CFRP入門
　　開催日時：2021年5月11日（火）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/75620/

〇　水素ビジネスの動向および参入のための課題とポイント
　　開催日時：2021年5月11日（火）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/76505/

〇　電磁ノイズ低減を実現するシールド技術の基礎と応用
　　開催日時：2021年5月11日（火）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/70867/

〇　New-3D時代を創り出すAR/VR/MR機器とマイクロディスプレー
　　機器と表示デバイスの種類、参入企業、表示の課題《入門編》
　　開催日時：2021年5月12日（水）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/77008/

〇　粒子のハンドリングの基礎と評価
　　開催日時：2021年5月12日（水）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/71094/

〇　バイオフィルムの形成機構と除去・形成防止対策技術　～ 抗菌・抗ウィルスの視点も踏まえて ～
　　開催日時：2021年5月12日（水）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/75547/

〇　Rではじめるケモ・マテリアル・インフォマティクス：社内データの活用法！
　　開催日時：1日目：2021年5月13日（水）10：30～16：30
　　　　　　　2日目：2021年5月20日（水）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/76714/

〇　セルロースナノファイバー研究：分散・表面・集積・複合化の高度制御と特性発現
　　開催日時：2021年5月13日（木）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/68297/

〇　CO2の資源化と固体炭素化の新しい触媒プロセス技術
　　開催日時：2021年5月13日（木）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/75800/

〇　ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策
　　開催日時：2021年5月14日（金）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/74356/

〇　車載用プラスチック入門
　　開催日時：2021年5月14日（金）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/69532/

〇　量子コンピュータ最前線：基礎から最新研究開発動向まで
　　開催日時：2021年5月14日（金）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/68703/

〇　CO2を原料とした樹脂材料の研究開発動向
　　開催日時：2021年5月17日（月）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/69808/

〇　計測・材料開発の効率化のための機械学習
　　開催日時：2021年5月17日（月）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/68718/

〇　熱伝導コンポジット材料の微視構造設計と特性評価
　　開催日時：2021年5月18日（火）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/75550/

〇　ポリ乳酸の基礎から技術・市場開発最前線まで　～ グリーン・イノベーションの旗手 ～
　　開催日時：2021年5月18日（火）10：00～17：00
　　https://cmcre.com/archives/76673/

〇　SDGs時代のカーボン繊維リサイクル　～ 課題とその克服について ～
　　開催日時：2021年5月18日（火）13:30～16:30
　　https://cmcre.com/archives/75413/

〇　水素吸蔵材料技術の現状と課題
　　開催日時：2021年5月18日（火）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/76022/

〇　第一原理計算 入門　～ 原理の把握と実践的な知識・ノウハウの習得 ～
　　開催日時：2021年5月19日（水）10：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/68465/

〇　水素製造技術の動向とその規模およびコスト
　　開催日時：2021年5月19日（水）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/75673/

〇　半導体パッケージ技術の基礎とFOWLP等の最新技術動向
　　開催日時：2021年5月20日（木）13：30～16：30
　　https://cmcre.com/archives/75768/

☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから！↓
　https://cmcre.com/archives/category/seminar/semi_cmcr_f/

7）関連書籍のご案内
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
　https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
以上

企業プレスリリース詳細へ
PR TIMESトップへ