アプライド マテリアルズ、酸化物半導体によって高精細ディスプレイを可能にする先進的なCVDフィルムを導入

@Press / 2012年3月21日 11時0分

AKT-PECVD装置
● タブレットPCやテレビのスクリーンは、より高性能を求めて酸化物半導体技術の採用が拡大
● 新しいAKT-PECVDは、酸化物半導体のバックプレーン用にコスト効率の良い膜を提供

 アプライド マテリアルズ(Applied Materials, Inc., Nasdaq:AMAT、本社:米国カリフォルニア州サンタクララ、会長兼CEO:マイケル・スプリンター)は、3月20日(中国時間)、次世代のタブレットPCやテレビ向けの、高性能、高精細なディスプレイを製造する新しいプラズマCVD成膜技術を発表しました。ディスプレイ業界をリードする、アプライド マテリアルズのAKT-PECVD装置によって成膜される先進的な絶縁膜により、酸化物半導体ベースのトランジスタを使用して、より小さく、応答速度の速いピクセルを作ることができ、より高精細なディスプレイの製造が可能になります。

 アプライドの新しいプラズマCVDによる膜は、トランジスタの安定性を改善し、最適化されたスクリーン性能を可能にする酸化物半導体向け誘電体膜界面を提供します。これらの高品質な酸化ケイ素(SiO2)膜は、最大9平方メートルまでのガラス基板に、均一に成膜することができ、高い生産歩留まりと低い製造コストを可能にします。

 アプライド マテリアルズのグループバイスプレジデント兼ジェネラルマネージャー(ディスプレイ事業グループ担当)トム・エドマンは次のように述べています。「ディスプレイメーカーは、現在酸化物半導体に積極的に投資しています。我々の先進的なプラズマCVDによる膜は、絶縁膜の均一性と安定性の問題を克服し、この新しい技術導入における難問の一つを解消しました。全世界の量産工場で実証されたAKT-PECVD装置の機能を酸化物半導体用の絶縁膜成膜用に拡張することにより、アプライド マテリアルズは酸化物半導体技術を迅速に安く市場に投入することに貢献しています。我々の装置による新しい膜は、お客様の工場において素晴らしい結果を出しており、主要なディスプレイメーカー各社より、装置のアップグレードや新しい装置の導入について引き合いをいただいています。」

 新しいプラズマCVD成膜ソリューションに加えて、アプライド マテリアルズは現在先進的なスパッタリングによるソリューションも開発しています。最新のロータリーカソード技術を使い、非常に均一、均質で、欠陥の少ない活性層膜を、現在市場にあるスパッタリング装置に比べ、高い生産性低い材料コストでの製造を実証しています。

◆「FPD China 2012」に出展
 アプライド マテリアルズは、3月20~22日上海で開催されるFPD China 2012に出展し、酸化物半導体向けプラズマCVD成膜ソリューションをご紹介いたします。この展示会におけるアプライド マテリアルズの展示詳細については http:www.appliedmaterials.com/newsroom/events/semicon-china-2012 をご覧ください。

◆ アプライド マテリアルズについて
 アプライド マテリアルズ(Nasdaq:AMAT)は、先進的な半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽電池の製造に用いられる革新的な装置、サービスおよびソフトウェアを提供するグローバルリーダーです。アプライド マテリアルズのテクノロジーにより、スマートフォン、薄型テレビ、ソーラーパネルなどの製品が世界中の家庭やビジネスで、より手頃な価格でご利用いただけるようになります。アプライド マテリアルズは、今日のイノベーションを明日の産業へ発展させていきます。
 詳しい情報はホームページ: http://www.appliedmaterials.com でもご覧いただけます。


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このリリースは3月20日中国においてアプライド マテリアルズが行った英文プレスリリースをエーケーティー株式会社が翻訳の上、発表するものです。
エーケーティー株式会社(本社:大阪府、代表取締役社長:イン・ドゥー・カン)は1991年12月に設立。

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