ボッテガ・ヴェネタ、第2回となる写真コンテスト“NEW EXPOSURE”を開催

@Press / 2013年5月23日 12時0分

NewExposure
ボッテガ・ヴェネタは写真の分野で新たな才能を発掘するため昨年開催したコンテスト“NEW EXPOSURE(ニュー・エクスポージャー)”が素晴らしい成功を収めたのを受け、今年も同様の写真コンテストを開催いたします。無名ながらも突出した才能を秘めるフォトグラファーを見つけ出す、というこの前代未聞のコンテストに提出された作品は、今年もファッションや写真、アート、デザインといった分野で活躍するキーパーソンたちの目に触れるというまたとない機会が得られます。また、今年は初めて、アメリカ国外からの応募も受け付けます。ボッテガ・ヴェネタは、このイベントが次世代を担う若者の創造性や発展性を育むことで、彼らの芸術的なチャレンジを支援し続けてきたブランドの取り組みにも一致すると考え、協賛を決定いたしました。

今回のコンテストの審査員には、ファッション、写真、アート、デザインの各分野で名声を築いてきた錚々たる顔ぶれが揃っています。ボッテガ・ヴェネタのクリエイティブ・ディレクター、トーマス・マイヤーのほか、VOGUE誌のフォトグラフィー・ディレクターを務めるアイヴァン・ショウ、スーパーモデルのリンダ・エヴァンジェリスタ、世界的に有名なファッション・エディター兼スタイリストのカーリーン・セルフ・ドゥ・ドゥズィール、フォトグラファーとして称賛を集めるコリエール・ショアとクレイグ・マクディーン、強い影響力を持つメイクアップアーティストのパット・マグラス、メトロポリタン美術館衣装研究所のキュレーターを務めるアンドリュー・ボルトン、ヴィジョナリー・クリエイティブ・ディレクターのダグ・ロイド、一流ヘアスタイリストのグイド・パラウ、ギャラリーを経営する美術商のヨッシ・ミロ、アーティストマネジメント・エージェンシー“アート+コマース”社の共同設立者、ジミー・モファットが審査員を務めます。

提出されたポートフォリオは7月下旬に審査員が選考し、10名が最終選考に進みます。この10名には最終プロジェクトが課せられ、夏の終わり頃に課題作品の審査が行われます。そして、9月のニューヨーク・ファッション・ウィーク期間中、コンテストのクライマックスである授賞式が同市で行われ、その場で最優秀賞が発表されます。受賞者は授賞式での表彰に加え、賞金10,000ドル、1年間にわたる“アート+コマース”社での研修指導およびアイヴァン・ショウによるVOGUEでの研修指導、さらに今年後半に発表されるボッテガ・ヴェネタのエクスクルーシブなプロジェクトで撮影をするチャンスを手に入れることができます。

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