各種汚れをソフトに微細クリーニング、「UVレーザークリーナー」を2月10日(水)より発売
PR TIMES / 2021年2月10日 10時15分
各種汚れをソフトに微細クリーニング、「UVレーザークリーナー」を2月10日(水)より発売
このたび株式会社光響(代表取締役 住村和彦、本社 京都府京都市)は、UVレーザー光源を用いたレーザークリーナーを企画・開発し、2月10日(水)より発売致します。株式会社光響では、これまでの「UVレーザーマーカーキット」及び「極微細用対物レンズ型UVレーザーマーカー」製品化を通じ、UVレーザー製品の開発ノウハウを高めて参りましたが、この度、同技術を新たにレーザークリーナーへ応用し、製品化致します。
(ご参考)
1.UVレーザーマーカーキット(2018/12月発売):
https://www.symphotony.com/products/marker/uvmkkit/
2.極微細用対物レンズ型UVレーザーマーカー(2020/6月発売):
https://www.symphotony.com/products/marker/ol-uvmk/
UVレーザーは光子エネルギーが高く、被照射面で分子結合が直接解離する光分解加工を起こします。
本製品は、この光分解加工原理を用いた汚れ除去が特長の一つで、熱分解加工と比べ、表面の汚れ加工残渣を少なくシャープに仕上げ、母材へのダメージを最小限に抑えることが可能です。
又、ガルバノスキャナーを介した対物レンズの集光で、数 μm以下の微細スポット径を形成し、ピンポイントで限定的なクリーニングも可能です。対物レンズユニットを取り外すことで、300 mm角エリア迄のクリーニングも可能です。
■製品イメージ:
[画像1: https://prtimes.jp/i/49537/52/resize/d49537-52-266424-0.png ]
■加工サンプルイメージ:
[画像2: https://prtimes.jp/i/49537/52/resize/d49537-52-730055-1.png ]
■特長:
・光分解加工により、母材ダメージ及び汚れ残渣を軽減
・レンズを選択することで、微少・広域クリーニングが可能
・回折限界に近い微小ビームスポット径 0.48 μm(NA0.9の対物レンズ使用時)
・ガルバノスキャナーミラーによる高速レーザークリーニング(電動ステージ不要)
・パソコンソフトウェア上で観察しながらのリアルタイムモニタリング加工
■用途:
・金属、半導体、無機物質上の有機物(油、レジスト等)、有機絶縁膜、紫外線分解後の物質汚れ除去等、
■価格及び納期:
・製品名:UVレーザークリーナー
・型 番:uvlc
・価格及び納期:お問い合わせください
■製品仕様:
[画像3: https://prtimes.jp/i/49537/52/resize/d49537-52-762016-2.png ]
株式会社光響では、今後も光産業の活性化に貢献し、光技術による5大革命(情報革命・医療革命・食料革命・環境革命・エネルギー革命)の促進を支援して参ります。
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