光老化抑制の新発見「ナイアシンアミド×アルテロモナス発酵エキス併用で相加的にコラーゲン分解酵素MMP-1の発現抑制」
PR TIMES / 2024年11月8日 13時0分
アンプルール技術リリース:肌老化の約80%を占めるといわれている光老化に対し、新たなアプローチを発見。
クリニカルソリューションコスメ「アンプルール」を展開する株式会社ハイサイド(本社:東京都目黒区)は2024年8月より、世界規模でのオープンイノベーションベースの皮膚科学研究を提供するプラスメディ株式会社との共同研究を開始。
今回最初の研究として線維芽細胞の光老化モデルにおけるナイアシンアミドとアルテロモナス発酵エキスの併用効果について検証を行ったところ、シワやたるみの原因となるコラーゲン分解酵素MMP-1(マトリックスメタロプロテアーゼ-1)の発現を相加的に抑制することが明らかになりました。MMP-1は紫外線などによる炎症により真皮や基底膜の構造タンパク質を壊すことで様々な老化症状を引き起こすことが知られています。
この発見は肌老化の約80%を占めるといわれている光老化に対し、新たなアプローチとなる可能性があると考えられます。
■研究背景
肌老化の原因となる光老化を防ぐ効果に着目
近年、肌の老化現象は細胞だけでなく、その周辺環境も影響を与えることが分かってきました。これらの相互作用を考慮した研究は、空間生物学やマトリックス生物学などと呼ばれ、最新の老化研究として注目されています。今回の研究では、シワやたるみと密接な関係がある真皮の細胞外マトリックス(ECM)成分、特にコラーゲンやエラスチンといったタンパク質を産生する線維芽細胞の光老化に焦点を当て検証対象として、以下の2つの成分を組み合わせました。
ナイアシンアミド:シミ、シワに対する医薬部外品の主剤として近年注目されており、コラーゲンの合成促進効果など幅広い作用がある。
アルテロモナス発酵エキス:深海の過酷な環境を生き抜く微生物が作り出す成分で、肌免疫やくすみにも効果が期待されている。
これらの成分を組み合わせることにより、線維芽細胞の光老化に対してどのような効果があるかを検証しました。
■研究結果
光老化モデルにおいてコラーゲン分解酵素を相加的に抑制する効果を発見
ヒト線維芽細胞に光老化の原因となる紫外線を照射すると、コラーゲン分解酵素(MMP-1)の発現が増加しました。医薬部外品の主剤としても知られるナイアシンアミドを添加した細胞ではこの発現が抑制されました。
さらに注目すべきポイントとして、ナイアシンアミドとアルテロモナス発酵エキスを併用した群においては、ナイアシンアミドのみを添加した群よりも高いMMP-1の発現抑制効果が認められました。この結果は、この両成分の組み合わせが、ナイアシンアミド単独使用よりも光老化に対して効果的にアプローチできることを示唆しています。
[画像1: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/54895/89/54895-89-b42a8dc833b725aa2187ee1d8d6ac007-2000x1400.png?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]
■アンプルールの取り組みと今後の展望
最先端の知見を化粧品開発に取り入れてきたアンプルール
2003年にドクターズコスメブランドとして誕生したアンプルールはシミの治療薬として医療現場で処方される「ハイドロキノン」をいち早く化粧品に応用。今日に至るまで20年間に渡り、シミや美白の研究だけにとどまらず、再生医療で用いられるGF(成長因子、細胞増殖因子)や生理活性ペプチド、幹細胞技術など最新のバイオテクノロジーを取り入れ、常に最新の知見を化粧品づくりへと活かしてまいりました。
今回の研究結果をもとに、消費者により効果的で科学的根拠に基づいたエイジングケア製品および光老化対策製品を開発、提供してまいります。同時に、この画期的な発見を足がかりとし、既知の有用成分の潜在力を引き出す研究を含め、さらなる革新的な発見を目指して研究を継続していきます。
AMPLEUR(アンプルール)について
アンプルールは、美容皮膚の知識を持つさまざまな専門家たちの英知を結集した先進のクリニカルソリューションコスメティクスです。美のあり方、そして「美しい肌」の定義も多様化する現代。限りないキレイへの願いに応えていくことが私たちの使命と考え、一人ひとりの「これから」に寄り添いながら“クリニカルな機能性”と“上質な心地よさ”を両立した化粧品をお届けします。
アンプルール公式サイト:https://www.ampleur.jp/
[画像2: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/54895/89/54895-89-4e817f8e807b094037eeebcdd4e6725f-2756x1378.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]
株式会社ハイサイド2003年の設立以来「AMPLEUR(アンプルール)」を中心に、業務用化粧品「WOVE style(ウォブスタイル)」など最先端で高機能な化粧品開発を手がけるとともに、様々な美容・健康・医療分野のサービスを提供する企業として発展し続けています。
本社:東京都目黒区中目黒1-10-23-2F
代表取締役社長:根津 崇
創業:2003年3月14日
事業内容:化粧品、医薬部外品の企画・開発・販売、美容サロンの経営コンサルティング、オウンドメディアの運営
HP:https://www.hsco.co.jp
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