9月22日(木) AndTech WEBオンライン「EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術」Zoomセミナー講座を開講予定

リソテックジャパン(株)　ナノサイエンス研究部　部長　博士（工学）　大阪公立大学　大学院工学研究科　客員教授　関口　淳　氏にご講演をいただきます。

　株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるEUVレジストでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィレジスト」講座を開講いたします。

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について,特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説！
本講座は、2022年09月22日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=10273



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Live配信・WEBセミナー講習会 概要


テーマ：EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
開催日時：2022年09月22日(木) 13:00-17:00
参 加 費：39,600円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminar_detail/?id=10273
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）



セミナー講習会内容構成


ープログラム・講師ー

リソテックジャパン(株) ナノサイエンス研究部 部長 博士（工学） 大阪公立大学 大学院工学研究科 客員教授 関口 淳 氏



本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題


EUVリソグラフィーの基礎知識
EUVフォトプロセスの最適化方法の習得
EUVフォトプロセスの評価方法の習得



本セミナーの受講形式


WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。



株式会社AndTechについて


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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/



株式会社AndTech 技術講習会一覧



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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminar_category/



株式会社AndTech 書籍一覧


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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
https://andtech.co.jp/books/



株式会社AndTech コンサルティングサービス


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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business_consulting/



本件に関するお問い合わせ


株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）



下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）


講演主旨
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。


プログラム

1．EUVLの概要
1.1 EUVLの概要
1.2 EUVL用レジスト

2．アウトガス評価技術
2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置

3．EUVレジストの評価技術
3.1 EUV透過率測定
3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
3.3 金属付与PAGによる高感度化の検討
3.4 屈折率nk測定
3.5 EUV2光束干渉露光

4．EUVメタルレジストの評価技術
4.1 メタルレジストの概要
4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
4.3 EUVメタルレジストの問題点

5．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

【質疑応答】


＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以 上

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