6月21日(金) AndTech「ナノインプリントリソグラフィと光学デバイス・半導体製造技術の展望」Zoomセミナー講座を開講予定

１.東京理科大学・教授：谷口氏　２.SCIVAX・技術フェロー：粟屋氏　３.野村総合研究所・コンサルティング事業本部：岸本氏　４.富士フイルム・シニアエキスパート：藤森氏 に、ご講演をいただきます。

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、
R&D開発支援向けZoom講座の一環として昨今高まりを見せる「ナノインプリント」の課題解決ニーズに応えるべく、
複数の専門家による「光学デバイスと半導体製造技術への展望」について講座を開講いたします。

ナノインプリント転写の基礎・機能設計・開発プロセス、ナノインプリント装置と材料、半導体アプリケーションへの今後の展望について解説します。
本講座は、2024年06月21日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ef18cbe-9d61-63b6-8088-064fb9a95405



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Live配信・WEBセミナー講習会　概要


ナノインプリントリソグラフィと半導体アプリケーションにおける今後の展望
開催日時：2024年06月21日(金) 11:00-17:00
参 加 費：60,500円（税込） ※電子にて資料配布予定
U　R　L ：https://andtech.co.jp/seminars/1ef18cbe-9d61-63b6-8088-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）

セミナー講習会内容構成


　ープログラム・講師ー
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第1部　ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎と将来
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　●東京理科大学・先進工学部・教授：谷口淳　氏
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第2部　ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用
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　●SCIVAX株式会社・技術フェロー：粟屋　信義　氏
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第3部　 成長する半導体アプリケーションとナノインプリントへの期待【仮】
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　●株式会社野村総合研究所・コンサルティング事業本部：岸本　隆正　氏
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第4部　 EUVリソグラフィ・ナノインプリントリソグラフィ向けレジストの展開【仮】
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　●富士フイルム株式会社・エレクトロニクスマテリアルズ研究所・シニアエキスパート：藤森　亨　氏

本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題


　１.ナノインプリントリソグラフィの基礎知識
　２.ナノインプリントリソグラフィ技術の応用

本セミナーの受講形式


　WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
　詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
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株式会社AndTechについて


　化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
　幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
　弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
　「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
　クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
　　https://andtech.co.jp/
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株式会社AndTech　技術講習会一覧


一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminars/search
[画像4: https://prtimes.jp/i/80053/761/resize/d80053-761-64569e998eaecb12269d-0.jpg ]

株式会社AndTech　書籍一覧


選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
https://andtech.co.jp/books
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株式会社AndTech　コンサルティングサービス


経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business-consulting

本件に関するお問い合わせ


株式会社AndTech　広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）

下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）


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第1部　 ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎と将来
【講演主旨】
　ナノインプリント技術の基礎や歴史から様々な分野への応用を紹介し、将来展望もおこなう。
【プログラム】
1．ナノインプリントリソグラフィの基礎
　1-1. ナノインプリントの歴史
　1-2. ナノインプリントの要素技術　
　1-3. ナノインプリントの各種方式
　1-4. ナノインプリントの位置づけ
2. ナノインプリントリソグラフィ技術
　2-1. 三次元化
　2-2. 金属パターン転写
3. 将来展望
　3-1. 曲面上への転写
　3-2. AR/MR グラス
4．まとめ
【質疑応答】

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第2部　 ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用
【講演主旨】
　現在の製品開発製造に用いられているナノインプリント装置、プロセス材料技術について紹介する。
　さらにAR/VRなど近年注目されているナノフォトニクスデバイスへの応用事例を紹介する。
【プログラム】
1．SCIVAXについて
2. ナノインプリント技術の基礎 -主要な要素技術、課題と対策-
　2-1. ナノインプリントとは
　2-2. ナノインプリントの各工程の代表的方式
3. ナノインプリントの装置
　3-1. SCIVAXナノインプリント装置の歴史
　3-2. R＆Dと量産に要求されるナノインプリント装置の機能と仕様
4．光学デバイスの作製事例
　4-1. 表面ナノ加工技術の産業への応用
　4-2. 光学デバイスへの応用１.-ワイヤグリッド偏光子、構造性位相差板
　4-3. 光学デバイスへの応用２. -ARグラス、メタレンズ-
　4-4. 光学デバイスへの応用３.-３Dセンサー用光学素子
５．今後の展望
【質疑応答】

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第3部　成長する半導体アプリケーションとナノインプリントへの期待【仮】
【講演主旨】
【プログラム】
※現在、講師の先生に最新の講演プログラムを考案いただいております。
　完成次第本ページを更新いたします。

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第4部　EUVリソグラフィ・ナノインプリントリソグラフィ向けレジストの展開【仮】
【講演主旨】
【プログラム】
※現在、講師の先生に最新の講演プログラムを考案いただいております。
　完成次第本ページを更新いたします。

＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以　上

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