「はんこ」の原理を使った新技術で最先端の半導体製造をめざす! 「ナノインプリントリソグラフィ」の技術動画を初公開
PR TIMES / 2023年2月27日 17時15分
身の周りのあらゆる機器に必要な半導体デバイス。キヤノンは、半導体の回路パターンを形成する半導体露光装置を開発・製造しています。現在、15nm(※)以下の細かい回路パターンをつくり出す「ナノインプリント」技術を活用した、新方式の半導体製造装置の開発を進めており、最先端の半導体デバイス製造への適用をめざしています。その精密さは、0.5mmのシャーペンの芯に3万本以上の線を書ける細さに当たります。このたび、キヤノン公式サイトに、「ナノインプリントリソグラフィ」技術のしくみがわかる動画を初公開しました。
<ナノインプリントリソグラフィ>
https://global.canon/ja/v-square/82.html
[画像1: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-726652d1995390f3021f-0.jpg ]
[画像2: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-4bab9600f46686de227e-1.jpg ]
現在の半導体デバイスは、ウエハーと呼ばれる土台の上に光で回路パターンを焼き付けています。それに対して「ナノインプリントリソグラフィ」は、ウエハー上に塗布された樹脂(レジスト)に、パターンを刻んだマスク(型)を押し当てて回路パターンを形成します。まさに「はんこ」の原理を使った最新技術は、既存の最先端露光技術と比べて製造時の消費電力を約10分の1まで削減でき、省エネ技術としても注目されています。本動画では、レジストの塗布から回路パターン形成までの流れをわかりやすく紹介しています。ぜひご覧ください。
[画像3: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-05b9b0b484c27ace6181-2.jpg ]
[画像4: https://prtimes.jp/i/13980/865/resize/d13980-865-2b0beea76ef7789abdfb-3.jpg ]
(ご参考)テクノロジーサイト ナノインプリントリソグラフィ
https://global.canon/ja/technology/frontier07.html
※ 1nm(ナノメートル)は、10億分の1メートル。
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