11月29日(金) AndTech「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの 基礎と高感度化の手法について」会場運営セミナー講座を開講予定
PR TIMES / 2024年10月29日 10時15分
東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 有光 晃二 氏にフォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの 基礎と高感度化の手法についてご講演をいただきます。
[画像1: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/80053/952/80053-952-38157d99e40cb3bedaee5bd50c16f2af-1920x1005.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]
株式会社AndTech(本社:神奈川県川崎市、代表取締役社長:陶山 正夫、以下 AndTech)は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる感光性ポリマーでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「感光性樹脂 」講座を開講いたします。
光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について解説し、酸増殖剤や塩基増殖剤を用いた高感度化の手法、硬化不良対策についても講演者の研究を中心に解説!
本講座は、2024年11月29日開講を予定いたします。 詳細:https://andtech.co.jp/seminars/1ef927df-db08-6c5a-aa7c-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
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テーマ:フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの 基礎と高感度化の手法について
開催日時:2024年11月29日(金) 12:30-16:30
参 加 費:45,100円(税込) ※ 電子にて資料配布予定
U R L :https://andtech.co.jp/seminars/1ef927df-db08-6c5a-aa7c-064fb9a95405
WEB配信形式:会場運営セミナー
セミナー講習会内容構成
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ープログラム・講師ー
東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 有光 晃二 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎
酸増殖剤や塩基増殖剤を用いた高感度化の手法
硬化不良対策
本セミナーの受講形式
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WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
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[画像2: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/80053/952/80053-952-f47dc2fc1dbf794319057ea5431bca31-1920x1005.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/
株式会社AndTech 技術講習会一覧
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[画像3: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/80053/952/80053-952-651dd4a3b73ce38e746866989288b146-1920x1005.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]
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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
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本件に関するお問い合わせ
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス:pr●andtech.co.jp(●を@に変更しご連絡ください)
下記プログラム全項目(詳細が気になる方は是非ご覧ください)
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【講演主旨】
光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について述べる。さらに、酸増殖剤や塩基増殖剤を用いた高感度化の手法、硬化不良対策について筆者らの研究を中心に述べる。
【プログラム】
1.光酸発生剤
1-1 光酸発生剤の構造と特性
1-2 UV硬化への応用
1-3 化学増幅レジストへの応用
2.酸増殖剤
2-1 酸増殖剤の構造と特性
2-2 化学増幅レジストの高感度化
2-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策
3.光塩基発生剤
3-1 非イオン型光塩基発生剤の特性と応用
3-2 イオン型光塩基発生剤の特性と応用
4.塩基増殖剤
4-1 塩基増殖剤の構造と特性
4-2 光パターニング材料への応用
4-3 UV硬化の高効率化・硬化不良対策
5.まとめ
【質疑応答】
* 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
* 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
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