【ライブ配信セミナー】ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策 3月22日(水)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES / 2023年2月17日 11時45分
本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったウェビナー(ライブ配信セミナー)となります。
先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ(千代田区神田錦町: https://cmcre.com/ )では、 各種材料・化学品などの市場動向・技術動向のセミナーや書籍発行を行っておりますが、 このたび「ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策」と題するセミナーを、 講師に河合 晃 氏 (国立大学法人 長岡技術科学大学 名誉教授 アドヒージョン(株) 代表取締役社長 博士(工学))をお迎えし、2023年3月22日(水)13:00より、 ZOOMを利用したライブ配信で開催いたします。 受講料は、 一般:44,000円(税込)、 弊社メルマガ会員:39,600円(税込)、 アカデミック価格は26,400円(税込)となっております(資料付)。
セミナーの詳細とお申し込みは、 弊社の以下URLをご覧ください!
https://cmcre.com/archives/105324/
質疑応答の時間もございますので、 是非奮ってご参加ください。
ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、かつ、高周波プリント基板や LSI および液晶デバイスなどの様々な先端分野で主力の加工技術となっています。また、ウェットエッチングは、量産性やコスト性および設備の簡易さに優れており、かつ、エッチングと同時にウェット洗浄も行えるという特長を有しています。しかし、ウェットエッチングには、濡れ性制御、反応性コントロール、界面密着制御、マスク耐性などの様々な要因が関わっており、高精度化のためには、それぞれを最適化することが必要です。近年では、ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説します。日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に応じます。
1)セミナーテーマ及び開催日時
テーマ:ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策
開催日時:2023年3月22日(水)13:00~16:30
参 加 費:44,000円(税込) ※ 資料付
* メルマガ登録者は 39,600円(税込)
* アカデミック価格は 26,400円(税込)
講 師:河合 晃 氏 国立大学法人 長岡技術科学大学 名誉教授 アドヒージョン(株) 代表取締役社長 博士(工学)
【セミナーで得られる知識】
ウェットエッチングの基礎、コントロール要因、形状制御技術
※本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
2)申し込み方法
シーエムシー・リサーチの当該セミナーサイト
https://cmcre.com/archives/105324/
からお申し込みください。
折り返し、 視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
詳細はURLをご覧ください。
[画像: https://prtimes.jp/i/12580/2260/resize/d12580-2260-1f032ae80e18ed88a738-0.jpg ]
3)セミナープログラムの紹介
1. ウェットエッチングの基礎
・加工技術としての位置づけ(設計値とシフト量)
・基本プロセスフロー(前処理、表面洗浄、エッチング液、マスク除去、洗浄)
・プロセス支配要因(濡れ、律速、反応速度、エッチング機構)
・等方性エッチング(アンダーカット)
・結晶異方性エッチング(結晶方位依存性)
・表面エネルギー理論による界面浸透解析(拡張エネルギーS, 円モデル)
・処理装置(液循環、ディップ、シャワー、スピンエッチ、フィルタリング)
2. アンダーカット形状コントロール
・支配要因(界面濡れ性、応力集中、液循環、マスク耐性)
・形状コントロール(エッチングラインの高精度化)
・高精度形状計測(断面SEM、定在波法、光干渉法、X線CT)
3. トラブル要因と解決方法(最短の解決のために)
・マスクパターンの剥離(付着エネルギーWa及び剥離要因)
・エッチング液の濡れ不良(ピンニング不良)
・エッチング開始点の遅れ(コンタクトラインのVF変形)
・ホールパターンの気泡詰まり(界面活性剤)
・エッチング表面の荒れ(気泡、異物)
・金属汚染(RCA洗浄)
・液中酸化(溶存酸素)
・再付着防止(DLVO理論、ゼータ電位)
・乾燥痕(マランゴニー対流、IPA蒸気乾燥)
4. 質疑応答
(日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます)
参考資料
・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析(測定方法)
4)講師紹介
【講師経歴】
三菱電機株 ULSI研究所での勤務を経て、大学教員として、電子デバイス、電子材料、リソグラフィ、コーティング、表面界面、プロセス技術の研究開発を行う。各種論文査読委員、NEDO 技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。現在、名誉教授、ならびにアドヒージョン(株) 代表取締役社長として技術コンサルティング事業を展開している。
【活 動】
原著論文 160報以上、国際学会 100件、特許出願多数、講演会 200回以上、日本接着学会評議員、応用物理学会会員、技術コンサルティング実績 70社以上
5)セミナー対象者や特典について
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。推奨環境は当該ツールをご参照ください。後日、視聴用のURLを別途メールにてご連絡いたします。
★ 受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
【セミナー対象者】
初心者の方にも分かりやすく解説します。
☆詳細とお申し込みはこちらから↓
https://cmcre.com/archives/105324/
6)ウェビナー(オンライン配信セミナー)のご案内
○化学業界の現状を踏まえ、伝承すべき必須要素を提言する!
開催日時:2023年3月1日(水)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/107758/
○自動車用ワイヤレス給電の基礎と実用化に向けた法整備・標準化、及び技術的課題
開催日時:2023年3月1日(水)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/107686/
○食材・生体適合材から太陽電池・半導体分野などでの高機能素材の創出手段
:超臨界二酸化炭素(CO2)と工業的利用
開催日時:2023年3月2日(木)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/102755/
○微細藻類の培養および設備設計技術とその応用
開催日時:2023年3月2日(木)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/107838/
○音響メタマテリアルの基礎と吸音遮音解析、自動車への応用
開催日時:2023年3月2日(木)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/108521/
○計算×情報×実験による 人間の経験則を超えた磁性材料の創製
開催日時:2023年3月3日(金)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/106841/
○CMOSデジタルイメージングとセンシング技術、その最新動向
開催日時:2023年3月3日(金)10:00~17:00
https://cmcre.com/archives/106868/
○シランカップリング剤:反応メカニズムと使い方
開催日時:2023年3月6日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/102879/
○微生物機能を活用する都市鉱山からのレアメタル・貴金属リサイクル技術とその実用
開催日時:2023年3月6日(月)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/107090/
○マテリアルズインフォマティクスの中核をなす計算科学シミュレーション技術
開催日時:2023年3月7日(火)10:30~16:30
https://cmcre.com/archives/107503/
○マイクロ波照射を利用した化学合成
開催日時:2023年3月7日(火)13:30~16:00
https://cmcre.com/archives/104158/
○レーザ加工技術とその応用
― 接合、切断、肉盛、表面処理など ―
開催日時:2023年3月8日(水)10:00~17:00
https://cmcre.com/archives/107728/
○電子機器廃棄物からの貴金属回収プロセスの基礎と応用
開催日時:2023年3月9日(木)13:30~16:30
https://cmcre.com/archives/105289/
☆開催予定のウェビナー一覧はこちらから!↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
7)関連書籍のご案内
(1)コーティング技術の基礎と実践的トラブル対応
https://cmcre.com/archives/97738/
■ 発 行:2022年5月20日
■ 著 者:河合 晃
■ 定 価:冊子版 70,000円(税込 77,000円)
セット(冊子 + CD) 80,000円(税込 88,000円)
★ メルマガ会員:定価の10%引き!
■ 体 裁:A4判・並製・196頁
■ 編集発行:(株)シーエムシー・リサーチ
ISBN 978-4-910581-21-7
↓詳細とご購入はこちらから
https://cmcre.com/archives/97738/
(2)レジスト材料の基礎とプロセス最適化
https://cmcre.com/archives/89161/
■ 発 行:2021年11月12日
■ 著 者:河合 晃
■ 定 価:冊子版 80,000 円(税込 88,000 円)
セット(冊子 + CD) 90,000 円(税込 99,000 円)
★ メルマガ会員:定価の10%引き!
■ 体 裁:A4判・並製・193頁
■ 編集発行:(株)シーエムシー・リサーチ
ISBN 978-4-910581-10-1
↓詳細とご購入はこちらから
https://cmcre.com/archives/89161/
(3)酸化物半導体薄膜技術の全て(第2弾)
https://cmcre.com/archives/59113/
■ 発 行:2020年4月30日
■ 著 者:鵜飼 育弘
■ 定 価:60,000 円(税込 66,000 円)
★ メルマガ会員:定価の10%引き!
■ 体 裁:A4判・並製・本文 161頁・カラー
■ 編集発行:(株)シーエムシー・リサーチ
ISBN 978-4-904482-77-3
↓詳細とご購入はこちらから
https://cmcre.com/archives/59113/
(4)酸化物半導体薄膜技術の全て
https://cmcre.com/archives/52376/
■ 発 行:2019年10月10日
■ 著 者:鵜飼 育弘
■ 定 価:70,000 円(税込 77,000円)
*2020年4月30日 第2弾 発行に合わせて
定価99,000円(税込)を値下げしました。
★ メルマガ会員:定価の10%引き!
■ 体 裁:A4判・並製・本文205頁・カラー
■ 編集発行:(株)シーエムシー・リサーチ
ISBN 978-4-904482-66-7
☆発行書籍の一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/category/cmc_all/
☆お客様感謝セールのお知らせ!
対象書籍を20~50%引きの特別価格にて提供いたします!
セール期間:2022年12月7日(水)~2023年3月3日(金)
対象書籍一覧はこちらから↓
https://cmcre.com/archives/106377/
以上
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