「ナノイー」史上最高濃度のOHラジカルを生成する新「ナノイー X」デバイスを開発

PR TIMES / 2021年8月2日 16時15分

[画像: https://prtimes.jp/i/3442/4337/resize/d3442-4337-240f29f912e1aacb5662-0.jpg ]

パナソニック株式会社（以下、パナソニック）は、山形大学東山禎夫名誉教授と共同で、OHラジカル生成量が「ナノイー（※1）」の100倍（※2）の新「ナノイー X（※3）」デバイスを開発しました。これにより、室内空間における空気の浄化効果や脱臭効果の、さらなる向上を実現します。

昨今、外出自粛の広がりや、テレワークの浸透など生活様式の変化に伴う在宅時間の増加により、より良い空気環境への関心がますます高まっています。

パナソニックは、2003年、空気環境の改善を目的とした「ナノイー」デバイスを開発。2016年にはOHラジカル生成量を「ナノイー」の10倍（※4）に高めた「ナノイー X」デバイスに進化させるなど、長年にわたって「ナノイー」技術を追求してきました。そして、エアコンや空気清浄機など家電製品への搭載にとどまらず、自動車や鉄道などの移動空間、病院やホテルなどの公共空間へと「ナノイー」「ナノイー X」デバイスの活躍の場を広げ、空気質の改善による清潔で快適な空間を提供してきました。

この度開発した新「ナノイー X」デバイスは、従来の「ナノイー X」デバイスが採用する4本針形状の対極板を用いた集中放電「マルチリーダ放電」から、円周状に放電してOHラジカル生成領域を増加させた「ラウンドリーダ放電」へと進化しました。これにより、「ナノイー」の特長である弱酸性と長寿命はそのままに、OHラジカル生成量が「ナノイー」比100倍（※2）、48兆個/秒に増加し、
・スギ花粉の抑制時間1/8（「ナノイー X」比）
・加齢臭の脱臭時間1/8（「ナノイー X」比）
・カビ菌の抑制時間1/4（「ナノイー」比）
と、さらに清潔効果を向上させた新「ナノイー X」を実現しました（今回の検証は試験室で実施したものであり、時間は実使用空間の検証とは異なります）。

パナソニックは、今後も「ナノイー」技術の可能性を追求、進化させ続け、家電分野、車載分野、住宅関連分野など、くらしや社会のさまざまなシーンにおいて、清潔で快適な空間を提供していきます。

※1 水に高電圧を加えることで生成されるナノサイズの微粒子イオン（ナノイーについて http://panasonic.jp/nanoe/）
「ナノイー」および「nanoe」マークは、パナソニック株式会社の商標です。
※2 ラジカル発生量「ナノイー」4,800億個/秒に対して、新「ナノイー X」48兆個/秒（パナソニック調べ）
※3 「ナノイー X」および「nanoeX」マークは、パナソニック株式会社の商標です。
※4 ラジカル発生量「ナノイー」4,800億個/秒に対して、「ナノイー X」4兆8,000億個/秒（パナソニック調べ）

【お問い合わせ先】
パナソニック株式会社アプライアンス社ビューティ・パーソナルケア事業部デバイス商品部
TEL：0749-27-0485〔お問合せ受付時間：9:30-17:00（土日、祝日除く）〕

全文は以下プレスリリースをご覧ください。
▼[プレスリリース] 「ナノイー」史上最高濃度のOHラジカルを生成する新「ナノイー X」デバイスを開発（2021年8月2日）
https://news.panasonic.com/jp/press/data/2021/08/jn210802-3/jn210802-3.html

＜関連情報＞
・パナソニックナノイー・ナノイー X
http://panasonic.jp/nanoe/

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