発明特許審査期間が2025年までに15カ月に短縮へ―中国

中国で発明特許審査期間が2025年までに15カ月に短縮される。写真は栄耀のスマートフォン。

中国国家知的財産権局はこのほど複数の当局と共同で「知的財産権保護制度建設プロジェクト実施案」を策定した。実施案では、2027年までに知的財産権保護制度と保護能力現代化建設で実質的な措置を講じ、知的財産権に関する法律・法規をより包括的かつ体系化し、2035年までに知的財産権保護制度と保護能力現代化をほぼ実現するとしている。新華社が伝えた。

同局が27日に明らかにしたところによると、実施案は世界一流のビジネス環境を支える知的財産権保護制度の建設を急ぎ、ハイレベルの科学技術自立自強の実現を後押しし、経済の質の高い発展の推進を目的としている。

また実施案は、知的財産権保護制度の建設は体系的なプロジェクトであり、知的財産権保護の全チェーン・全プロセス・全要素から、知的財産権保護政策・標準制度や、知的財産権法執行司法制度など七つの面で重点的に実施すると打ち出している。

同局の関係責任者によると、2025年までに発明特許の審査期間を15カ月に短縮し、一般的な状況における商標登録期間を7カ月に安定させ、発明特許結審の正確率を95％以上にし、商標審査サンプリング合格率を97％以上にするという。（提供/人民網日本語版・編集/YF）