ＳＫハイニックスの中国半導体生産、先行き不透明 米政府が懸念

複数の関係者がロイターに明らかにしたところによると、韓国の半導体大手ＳＫハイニックスが半導体をより効率的に製造するために中国の設備を改修する計画の先行きが不透明になっている。写真は２０１６年４月撮影（２０２１年　ロイター／Kim Hong-Ji）

［ソウル　１８日　ロイター］ - 複数の関係者がロイターに明らかにしたところによると、韓国の半導体大手ＳＫハイニックスが半導体をより効率的に製造するために中国の設備を改修する計画の先行きが不透明になっている。米政府が高度な製造機器が中国国内で使われることを望んでいないためという。

ＳＫハイニックスは、中国の無錫にある量産施設を刷新し、オランダの半導体製造装置メーカー、ＡＳＭＬ製の「ＥＵＶ（極端紫外線）リソグラフィ」製造装置を導入する計画という。事情に詳しい３人の関係者が語った。

米国はこれまで、こうした最先端機器が中国で使われると同国の軍事力強化に利用される恐れがあるとして反対してきた。

米政権高官は、米政府がＳＫハイニックスがＥＵＶ装置を中国国内に持ち込むことを認めるかどうかについて具体的なコメントを避けた。ただ、米国と同盟国の技術を利用して中国が軍事力近代化に役立つ最先端半導体を製造することを防ぐことに引き続き注力すると述べた。

無錫工場では、ＳＫハイニックスのＤＲＡＭチップの約半分（世界全体の１５％）を製造しており、製造計画に変更があれば２０２１年だけでも１９％の需要拡大が見込まれる世界の半導体市場に大きな影響が及ぶ可能性がある。

ＳＫハイニックスの中国事業に詳しい関係者によると、同社が製造する半導体で最先端半導体占める割合は２─３年後に増えると見込まれており、コストを抑えて生産を加速するためにＥＵＶ装置の導入が必要になる。