NEDO「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発」プロジェクトに採択
Digital PR Platform / 2024年1月30日 14時2分
~当社コア技術である光半導体の深化で次世代システムへ貢献~
古河電気工業株式会社(本社:東京都千代田区大手町2丁目6番4号、代表取締役社長:森平英也)は国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(以下、NEDO)が公募した「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発(委託)」に採択されました。当社コア技術のひとつであるフォトニクス関連の知見を活かし、次世代の光半導体デバイス開発を進めていきます。
■背景
各国において5Gの商用サービスが展開され、日常的な運用が行われるようになりました。今後は、一般ユーザのみならず、スマートシティや農業への活用、企業のDX導入や交通など、多岐にわたる分野においてデータの送信、処理、運用が期待されています。これら次世代の通信環境基盤を実現するために、超低遅延や多数同時接続など高機能化された5G(以下、ポスト5G)への要請が高まっています。
この度公募された「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発(委託)」は、ポスト5Gに対応した情報通信システムで中核となる技術および同システムで必要となる先端半導体の製造技術の開発を行うことにより、ポスト5G情報通信システムの開発・製造基盤強化を目指しています。
■内容
当社は、日本電信電話株式会社、NTTイノベーティブデバイス株式会社、NTTデバイスクロステクノロジ株式会社、新光電気工業株式会社と共同で、本プロジェクトの「課題(d2)光電融合に係る実装技術および確定遅延コンピューティング基盤技術開発-(d2-1)光チップレット実装技術」を受託し、研究開発を開始します。当社は、図1に示す光と電子の融合を実現するための光半導体デバイスの実現を担当します。特に図2のような光源については、高出力化と低消費電力化、そしてシリコンフォトニクスとの集積化が求められているため、光半導体デバイスの量産性を上げる製造技術の開発に取り組みます。なお、本プロジェクトの実施期間は2028年度までの5年間を予定しています。
[画像1]https://user.pr-automation.jp/simg/1782/82492/400_225_2024013009483765b8476590358.PNG
図1 光と電子が融合したデバイスイメージ
[画像2]https://user.pr-automation.jp/simg/1782/82492/300_192_2024013009491165b847873279e.png
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