「ネイルを楽しむ」が、ときに皮膚トラブルにつながることも？ 手湿疹にはステロイド外用剤による早めの対処が大切

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大正製薬株式会社［本社：東京都豊島区　社長：上原 茂］（以下、当社）は、おしゃれと皮膚トラブルとの関係性について研究を進めております。このたび、ネイルケアに着目し、十分に硬化されないジェルネイル（未硬化ジェル）やネイル落とし（アセトン）により、ときに起こりうる手湿疹（炎症）や黒ずみの発症機序を明らかにしました。

これまでにも当社は、おしゃれに伴う皮膚トラブルとして、「Vゾーンの脱毛後の黒ずみ・くすみ」に関する研究リリースを発信しており※1、今回のネイルケアによる手湿疹に関する研究はそれに次ぐものになります。

【研究結果】
～未硬化ジェルやアセトンによる手湿疹（炎症）や黒ずみの発症機序を解明～
今回着目したネイルケアのジェルネイルとは爪にジェル状のカラー剤を塗布し、UVライト又はLEDライトを当て硬化（重合）させるものです。まれに照射時間が不十分などの理由から、ジェルネイルが十分に重合されない場合があります。そして、爪周囲の皮膚に未重合のジェルネイルが付着した場合に、皮膚トラブルを引き起こすことが報告されています※2。
また、アセトンとはマニキュアやジェルネイルを落とす際に使用するもので、脱脂作用によりときに乾燥や手湿疹（炎症）を引き起こす原因になることがあります。

今回、未硬化ジェルやアセトンが引き起こす炎症や黒ずみの発症機序を解明するために、3次元培養表皮を用いて実験を行いました。3次元培養表皮を未硬化ジェルやアセトンで刺激すると、経表皮水分蒸散量（TEWL）が上昇しバリア機能が低下すること、さらに、炎症やメラニン生成に関わる因子（プロスタグランジンE2合成酵素及びエンドセリン-1）の遺伝子発現量が上昇することがわかりました。
本実験により、未硬化ジェルやアセトンは、バリア機能を低下させ皮膚の乾燥を誘導するだけでなく、手湿疹の原因となる炎症や、黒ずみを引き起こす因子の遺伝子発現を促進させることが明らかとなりました。

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3次元培養表皮を未硬化ジェル又はアセトンで刺激し、経表皮水分蒸散量（TEWL）、遺伝子発現量を評価した。TEWLは刺激なしの値を100%とした相対比、遺伝子発現量は刺激なしの値を1とした相対比。
n＝３、平均値+標準誤差（TEWL）、平均値+標準偏差（遺伝子発現量）、**：p<0.01、 ***：p<0.001 vs 刺激なし（Dunnett's test)