産総研とEUV研究で連携、前工程から後工程まで半導体技術開発で日本との関係性強化を図るIntel

日米でEUVの先端研究を連携して推進

これらの話を受けたナタラジャン氏は、コラボレーションの重要性を強調。すでに日米の政府間での半導体研究開発コラボレーションが推進されているほか、Intelとして産総研と産総研子会社として2023年4月に設立されたAIST Solutionsとのパートナーシップを通じて、日本におけるEUVリソグラフィ研究開発センターの設立を支援していくことを明らかにした。また、日本のサプライヤやアカデミアとの連携によるリソグラフィプロセスにおけるPFASの除去などに向けた開発を推進していくことも示した。

こうしたIntelの日本重視の姿勢に対し、経済産業省 商務情報政策局長の野原諭氏は、「日本政府としても半導体政策を3つの目的で考えている」とし、半導体産業を日本の柱となる基幹産業の1つとして育てていくことを目指していることを明言。グローバルプレイヤーと協力して、日本での半導体製造、R＆Dの推進、そして強みとなっている製造装置や材料を中心としたグローバルへの供給責任を果たしていくための支援を行っていくとし、Intelが日本にとって不可欠なパートナーであるとの見方を示した。

EUVリソグラフィ研究開発センターの設立に関しても、Intelが中核的な存在になることに対する期待を示し、同社のオレゴンのEUV研究拠点とも連携を図り、次世代製造装置の開発や日米アカデミア連携による高度な半導体人材育成にもつなげていきたいとするほか、PFASフリーの材料開発プロジェクトもEUV拠点連携との関係性強化に対する期待をのぞかせた。SATASについても、「政府としても、インテルと日本企業の連携した取り組みをサポートしていく用意がある」とし、インテルとともに日本ならびに世界の半導体産業の成長に向けた協力関係を構築していきたいとした。

また、このEUVリソグラフィ研究開発センターの受け口となるAIST Solutionsの代表取締役社長を務める逢坂清治氏は、「半導体は日本が世界に貢献できる重要な産業」であるとし、Intelと協力して導入に多額の費用が必要なEUV露光装置の利用体制を整備し、国内メーカーに提供することで、材料ならびに製造装置産業の下支えを含め、半導体産業の発展に寄与していくことを目指すとする。そのため、このプログラムに参加し、ともに研究開発を進めてくれるパートナーを広く募集していくとし、興味のある日本企業は積極的に声をかけてもらいたいとしていた。

このほか、同基調講演にはアメリカ合衆国大使館 商務担当公使のアラン・ターリー氏も登壇。日米政府が協力して半導体サプライチェーンのレジリエンスの強化を目指していることを指摘。その中でもIntelは研究開発の核となっており、サプライチェーンのレジリエンス創出の柱にもなっているとし、今回の一連の連携が日米の半導体業界の象徴的な取り組みの1つになると思うとし、米国政府としても協力・連携の重要性は認識しており、多くの日本のパートナーにもレジリエントなしっかりしたサプライチェーンの一員になってもらいたいと思っていると語っていた。
（小林行雄）