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 4月18日、米半導体大手インテルは、オランダ半導体装置大手ASMLの次世代EUV(極端紫外線)露光装置「高NA・EUV」を組み立てる世界初の企業になったと発表した。写真はインテルのロゴ。スペインのバルセロナで2018年2月撮影(2024 ロイター/Sergio Perez) [記事を読む]

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